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作為制造芯片的核心器件，光刻機自然是重中之重，而一款性能出眾的光刻機也是制造高性能芯片的必要條件，而在光刻機領域尤其是高端光刻機，目前基本上被ASML所壟斷，而ASML也提供給包括英特爾、臺積電以及三星等晶圓代工廠提供最新的EUV光刻機。目前隨著技術的進步，越來越多的晶圓代工廠商開始研發(fā)和量產(chǎn)5nm工藝，如今ASML宣布將會采用全新的技術，從而讓5nm晶圓的產(chǎn)品成倍提升。

今天ASML宣布正式發(fā)布第一代HMI多光束檢測機HMI eScan1000，這個檢測機可以適用于5nm及更先進工藝，使得產(chǎn)能大漲600%。根據(jù)ASML的介紹，HMI eScan1000實際上是一套能夠驗證先進工藝生產(chǎn)出來的晶圓質(zhì)量的系統(tǒng)，它的作用就是檢測制造出來的晶圓能夠符合要求和預期。

全新的多光束檢測機HMI eScan1000能夠同時生產(chǎn)和控制九道電子束，檢測性能提升了600%，因此晶圓的制造能力也得到了極大的提升，此外HMI eScan1000不單單能夠檢測5nm工藝的產(chǎn)品，同時也能夠為今后的更先進的工藝做準備，而現(xiàn)在這款產(chǎn)品也得到了客戶的認可，目前已經(jīng)在陸續(xù)測試。