制程再次升級:ASML計劃2021年推出3nm光刻機
白貓 / 2020-02-19 10:4929417目前無論是手機處理器還是電腦處理器,7nm制程已經是最先進的工藝之一了,基于7nm制程的處理器也已經大規模量產,獲得了不錯的評價。而高通也已經表示將會在下一代的X60基帶中采用最新的5nm制程,可以說是首款搭載5nm的產品。預計從2021年開始各大旗艦手機都將搭載5nm制程工藝的處理器,那么5nm之后會是多少制程呢?

作為制造處理器當中最核心的一個步驟,光刻顯然是決定處理器好壞的重要節點,作為光刻機行業的王牌,ASML表示目前正在研發最新的光刻機,稱可以進行最小3nm制程的光刻,又將處理器的制程往前大邁進了一步。目前ASML使用的先進光刻機為NXE:3400B和改進型的NXE:3400C,其中NXE:3400C采用的額是模塊化設計,維護時間從傳統的48小時大幅縮短至10小時。而ASML的下一代光刻機將會被稱之為EXE:5000,這臺光刻機是由ASML和蔡司與比利時微電子中心共同研發。

和目前所使用的光刻機相比,EXE:5000的最大特點便是采用3nm制程工藝進行芯片的光刻,而作為ASML 3nm的最大客戶,包括臺積電以及三星均在芯片路線圖中指出了今后將會使用的3nm制造工藝,顯然想要讓該制程落地需要的是更為先進的光刻機。ASML表示將會在2021年推出EXE:5000的樣機,同時在2023年左右開始量產,預計大家想要看到基于3nm制程的產品需要等到2024年了。
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