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近日，來自etnews外媒報道的消息，LG Innotek申請了一項通過均勻沉積OLED發(fā)光材料從而實現(xiàn)發(fā)光效率的專利，同時該項專利還可以最大程度上減少以往OLED面板上的污漬以及光干擾問題。

據(jù)了解，LG Innotek該項專利主要在于改變FMM（全稱Fine Metal Mask精細(xì)金屬掩模結(jié)構(gòu)）結(jié)構(gòu)，F(xiàn)MM可以讓OLED有機(jī)材料精確沉積在顯示像素的元件，需要鉆出數(shù)千萬個直徑為 20 至 30 微米 (?) 的孔，正因為如此，F(xiàn)MM 行業(yè)正專注于鉆探精確的有機(jī)滲透孔。

LG Innotek OLED Mask

而LG Innotek在研究后發(fā)現(xiàn)，該種方法會降低有機(jī)材料沉積的效率，主要是由于FMM厚度比較薄，容易發(fā)生扭曲，從而會在OLED面板上形成污點或者光干涉引起的“波紋”，進(jìn)而影響屏幕觀感。基于此，LG Innotek提出通過改變FMM結(jié)構(gòu)來提升均勻性，通過不同尺寸的孔交叉形成一個孔，最大限度地減少相鄰孔之間的偏差，可減少FMM扭曲，有望可以延長OLED的使用壽命。